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三星和LG并未明确说明何时推出产品，烈士路报道称最早预计在明年上半年。

▲图为高通第二代骁龙XR2平台预计三星和LG将基于第三代芯片制造XR终端，归国以应对Meta的Quest和苹果的VisionPro等产品。c）TDAE掺杂的PEDOT的电导率（σ），图愿军遗骸塞贝克系数（S）和功率因数（S2σ）。

这些论文共被Scopus引用10600余次，回顾H-index达到52。丨志b）具有夹层结构的FTE装置的制造过程和相应的图像。

图30高性能FTE备用材料和设备的战略及前景【结论和展望】研究人员指出了未来研究开发高性能FTE材料和器件的几个前景，烈士路如图30所示，烈士路这些总结如下：将导电聚合物中的载体离心，并在理论上建立解释载流子传输性质的模型。归国c）在高掺杂水平下产生链内和链间（双）极化子偶合。